光刻胶 - 第七手机网

标签：光刻胶

打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

通讯

打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

日本7月起将限制韩国进口含显示和半导体PI等材料

安卓资讯

【手机中国新闻】据6月30日产经新闻报道，日本政府将从7月4日起修订对韩国进口管理的政策。从7月1日起，将对应用于OLED显示零部件的Fluorine Polyimide（氟聚酰亚胺）和半导体制作时要用的Resist（光刻胶）和Eatchin