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台积电年报首度提及2nm技术 去年开始研发

作者 dawei
2020年4月25日

(原标题:台积电年报首度提及2nm技术 去年开始研发)

【TechWeb】4月24日消息,据台湾媒体报道,台积电近日上传了2019年年报,并在年报中首度提及2nm技术。

台积电年报首度提及2nm技术 去年开始研发


在2018年年报中,台积电的表述为,公司3nm技术已进入全面开发阶段,而3nm以下的技术已开始定义并密集进行先期开发。

在2019年年报中,台积电表示,当台积电公司采用三维电晶体之第六代技术平台的3nm技术持续全面开发时,公司已开始开发领先半导体业界的2nm技术,同时针对2nm以下的技术进行探索性研究。

关于3nm制程技术,台积电表示,相较于5nm制程技术,3nm制程技术大幅提升晶片密度及降低功耗并维持相同的晶片效能。2019年,台积电的研发着重于基础制程制定、良率提升、电晶体及导线效能改善以及可靠性评估。台积电表示,今年将持续进行3nm制程技术的全面开发。

台积电未详细介绍2nm制程技术。

关于微影技术,台积电表示,去年,微影技术研发的重点在于5nm的技术转移、3nm技术的开发及2 nm以下技术开发的先期准备。5nm技术已经顺利地移转,研发单位与晶圆厂合作排除极紫外光微影量产问题。

标签:

nm半导体台积电晶圆厂晶片
作者

dawei

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